ISSN:
0044-2313
Schlagwort(e):
reaction behaviour, N-silylation
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Si—O bond splitting
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cyclodisilazanes
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Chemistry
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Inorganic Chemistry
Quelle:
Wiley InterScience Backfile Collection 1832-2000
Thema:
Chemie und Pharmazie
Beschreibung / Inhaltsverzeichnis:
N-Silylation and Si—O Bond Splitting at the Reaction of Lithiated Siloxy-silylamino-silanes with ChlorotrimethylsilaneLithiated Siloxy-silylamino-silanes were allowed to react in tetrahydrofurane (THF) and in n-octane (favoured) and n-hexane, resp., with chlorotrimethylsilane.The monoamide (Me3SiO)Me2Si(NLiSiMe3) gives in THF and in n-octane the N-substitution product (Me3SiO)Me2Si · [N(SiMe3)2] 1, the diamide (Me3SiO)MeSi(NLiSiMe3)2 only in THF the N-substitution products (Me3SiO)MeSi[N(SiMe3)2]2 2 (main product) and (Me3SiO)MeSi[N(SiMe3)2](NHSiMe3) 3. In n-octane the diamide reacts mainly under Si—O bond splitting. The cyclodisilazane [(Me3SiNH)MeSi—NSiMe3]2 6 is obtained as the main product. Byproducts are 2, 3 and the tris(trimethylsilylamino) substituted disilazane (Me3SiO)(Me3SiNH)MeSi—N · (SiMe3)—SiMe(NHSiMe3)2 7. The triamide (Me3SiO)Si · (NLiSiMe3)3 reacts under Si—O and Si—N bond splitting in n-octane as well as in THF. The cyclodisilazanes [(Me3SiNH)2 · Si—NSiMe3]2 10 and (11: R = Me3SiNH, 12: R = (Me3Si)2N) are formed. in THF furthermore the N-substitution products (Me3SiO)Si[N(SiMe3)2] · (NHSiMe3)2 4 and (Me3SiO)Si[N(SiMe3)2]2(NHSiMe3) 5.The Si—O bond splitting occurs in boiling n-octane also in absence of the chlorotrimethylsilane.An amide solution of (Me3SiO)MeSi(NHSiMe3)2 with n-butyllithium in the molar ratio 1 : 1 leads in n-octane and n-hexane to 6 and 7, in THF to 3. The amide solutions of (Me3SiO)Si · (NHSiMe3)3 with n-butyllithium the molar ratio 1 : 1 and 1 : 2 give in THF 4 and 5, respectively.
Notizen:
Lithiierte Siloxy-silylamino-silane wurden in Tetrahydrofuran (THF) und in n-Octan (bevorzugt) bzw. n-Hexan mit Chlortrimethylsilan umgesetzt.Das Monoamid (Me3SiO)Me2Si(NLiSiMe3) ergibt in THF und in n-Octan das N-Substitutionsprodukt (Me3SiO)Me2Si · [N(SiMe3)2] 1, das Diamid (Me3SiO)MeSi(NLiSiMe3)2 nur in THF die N-Substitutionsprodukte (Me3SiO)MeSi[N(SiMe3)2]2 2 (Hauptprodukt) und (Me3SiO)MeSi[N(SiMe3)2](NHSiMe3) 3. In n-Octan reagiert das Diamid hauptsächlich unter Si—O-Bindungsspaltung. Als Hauptprodukt wird das Cyclodisilazan [(Me3SiNH)MeSi—NSiMe3]2 6 erhalten. Nebenprodukte sind 2, 3 und das tris(trimethylsilylamino)-substituierte Disilazan (Me3SiO)(Me3SiNH)MeSi—N(SiMe3)—SiMe(NHSiMe3)2 7.Das Triamid (Me3SiO)Si(NLiSiMe3)3 reagiert sowohl in n-Octan als auch in THF unter Si—O- und Si—N-Bindungsspaltung. Es werden die Cyclodisilazane [(Me3SiNH)2Si—NSiMe3]2 10 und (11: R = Me3SiNH, 12: R = (Me3Si)2N) gebildet, in THF weiterhin die N-Substitutionsprodukte (Me3SiO)Si[N(SiMe3)2] · (NHSiMe3)2 4 und (Me3SiO)Si[N(SiMe3)2]2(NHSiMe3) 5.Die Si—O-Bindungsspaltung findet in siedendem n-Octan auch in Abwesenheit von Chlortrimethylsilan statt.Eine Amidlösung aus (Me3SiO)MeSi(NHSiMe3)2 mit n-Butyllithium im Molverhältnis 1 : 1 führt in n-Octan und n-Hexan zu 6 und 7, in THF zu 3. Amidlösungen aus (Me3SiO)Si · (NHSiMe)3 mit n-Butyllithium im Molverhältnis 1 : 1 und 1 : 2 ergeben in THF 4 bzw. 5.
Materialart:
Digitale Medien
URL:
http://dx.doi.org/10.1002/zaac.19966221212
