Abstract
The emission of electrons from hot silicon surfaces is reviewed in an effort to present a summary of the state of research in this field. The theoretical aspect of the problem is outlined briefly, and experimental results covering the temperature and field dependence of the saturation current density, as well as the anisotropy and the energy distribution of the emission are presented.
Résumé
Ce travail donne un résumé de l’état actuel des recherches dans le domaine de l’émission thermique des électrons par des surfaces de silicium. L’aspect théorique est exposé succintement tandis que des résultats expérimentaux sont présentés. Ceux-ci concernent la dépendance de la densité du courant de saturation en fonction de la température et du champ, ainsi que l’anisotropie et la répartition énergétique de l’émission.
Zusammenfassung
Die Arbeit gibt einen Überblick über den derzeitigen Stand der Forschung auf dem Gebiete der Thermoemission aus Silizium. Dem kurzen Abriß über den theoretischen Aspekt des Problems folgen die experimentellen Resultate über Temperatur- und Feldabhängigkeit der Sättigungsstromdichte sowie über Anisotropie und Energieverteilung des Emissionsstromes.
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Busch, G., Madjid, A.H. The emission of electrons from hot silicon surfaces. Phys kondens Materie 4, 131–160 (1965). https://doi.org/10.1007/BF02422660
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