ISSN:
0044-2313
Keywords:
Chemistry
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Inorganic Chemistry
Source:
Wiley InterScience Backfile Collection 1832-2000
Topics:
Chemistry and Pharmacology
Description / Table of Contents:
On the Possibility of Planar Tetracoordination of the Fourth Main Group Elements (C, Si, Ge)Semiempirical MO calculations (CNDO/2, EHT) have been used to examine the ability of silicon, carbon, and germanium to form planar tetracoordinated compounds. The calculations have been performed for the tetrahedral ground state structures (Td - symmetry) as well as for the artificial planar structures (D4h - symmetry) of the compounds CH4, SiH4, GeH4, and CF4, SiF4, GeF4. A comparison between the tetrahedral and planar species showed, that all planar species are less stable. Furthermore they have larger bond distances and their bonds are stronger polarized. The possibility of the examined compounds to form planar structures increases with growing atomic number of the central atom and with increasing electronegativity of the substituents.
Notes:
Mit Hilfe semiempirischer Rechenverfahren (CNDO/2, EHT) wurde die Fähigkeit von Silicium und zum Vergleich von Kohlenstoff und Germanium zur planaren Tetrakoordination überprüft. Es wurden Rechnungen für die tetraedrischen Grundzustandsstrukturen (Td - Symmetrie) sowie für die künstlich planar gehaltenen Strukturen (D4h - Symmetrie) der Verbindungen CH4, SiH4, GeH4 und CF4, SiF4, GeF4 durchgeführt. Alle planaren Spezies sind im Vergleich zu den Tetraederstrukturen instabiler, haben größere Bindungsabstände und stärker polarisierte Bindungen. Bei den hier untersuchten Verbindungen nimmt mit zunehmender Ordnungszahl des Zentralatoms einerseits und mit zunehmender Elektronegativität des Substituenten andererseits die Neigung zur Bildung planarer Strukturen zu.
Additional Material:
4 Tab.
Type of Medium:
Electronic Resource
URL:
http://dx.doi.org/10.1002/zaac.19865320110
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