Digitale Medien
Amsterdam
:
Elsevier
Microelectronic Engineering
14 (1991), S. 259-268
ISSN:
0167-9317
Schlagwort(e):
DECR
;
ECR
;
Resist etching
;
dry development
;
organosilicon polymer etching
;
oxygen plasma
;
top-imaging lithography
Quelle:
Elsevier Journal Backfiles on ScienceDirect 1907 - 2002
Thema:
Elektrotechnik, Elektronik, Nachrichtentechnik
Materialart:
Digitale Medien
URL:
http://linkinghub.elsevier.com/retrieve/pii/0167-9317(91)90011-2
Permalink
|
Standort |
Signatur |
Erwartet |
Verfügbarkeit |