ISSN:
0392-6737
Keywords:
Impurity and defect levels
Source:
Springer Online Journal Archives 1860-2000
Topics:
Physics
Description / Table of Contents:
Riassunto Si fanno calcoli autoconsistenti e nonlineari della schermatura per l’idrogeno e il μ+ nel gellio, usando il formalismo funzionale per la densità di Hohenberg-Kohn e Kohn-Sham. La prescrizione di Blatt è usata per incorporare l’effetto dimensionale. Non si trova nessuno stato legato per H e μ+ nelle densità elettroniche corrispondenti a matrici di Al, Mg e Cu, e ciò è in accordo con le informazioni sperimentali sul μ+. Le cariche protoniche nette risultano essere 0.40e, 0.42e e 0.49e e le cariche muoniche nette 0.34e, 0.35e e 0.46e in matrici di Al, Mg e Cu, rispettivamente, in accordo con i calcoli precedenti. La resistività risidua calcolata per il sistema Cu−H risulta essere in buon accordo con il valore sperimentale.
Notes:
Summary The self-consistent, nonlinear screening calculations for hydrogen and μ+ in jellium are carried out by using the Hohenberg-Kohn and Kohn-Sham density functional formalism. The Blatt prescription is used to incorporate the size effect. No bound states are found for H and μ+ in the electronic densities corresponding to Al, Mg and Cu matrices, which is in agreement with experimental information on μ+. The net protonic charges are found to be 0.40e, 0.42e and 0.49e and net muonic charges are 0.34e, 0.35e and 0.46e in Al, Mg and Cu matrices, respectively, which are in agreement with earlier calculations. The calculated residual resistivity for the Cu−H system is found in good agreement with the experimental value.
Type of Medium:
Electronic Resource
URL:
http://dx.doi.org/10.1007/BF02453226
Permalink