ISSN:
0044-2313
Keywords:
Chemistry
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Inorganic Chemistry
Source:
Wiley InterScience Backfile Collection 1832-2000
Topics:
Chemistry and Pharmacology
Description / Table of Contents:
Chemical Reactions in Gas Discharges. II. Formation of Halogenosiloxanes by Reaction of SiX4 (X = Cl, Br) with OxygenThe reaction of SiX4 (X = Cl, Br) with O2 was investigated in a glow discharge and at high temperatures (1000°C-1100°C) by means of mass spectrometry. This reaction became important for industrial fabrication of optical waveguides. Formation of many halogenosiloxanes could be proved (chains, rings, polycyclic compounds). The influence of temperature has been studied. An estimation of thermodynamic stabilities of the compounds is given. It is expected that halogenosiloxanes are metastable with respect to SiX4 and SiO2.
Notes:
Die Reaktion von SiX4 mit O2 wurde in einer Niederdruckgasentladung sowie, thermisch aktiviert, bei 1000°C bis 1100°C untersucht. Diese Umsetzung ist bei der industriellen Fertigung von Lichtleitfasern von Bedeutung. Es wurde die Bildung einer Vielzahl von Halogenosiloxanen (kettenförmige, cyclische, oligocyclische) nachgewiesen. Der Anteil sauerstoffreicher Verbindungen steigt mit steigender Temperatur. Die Produktverteilung bei der Reaktion in einer Gasentladung unterscheidet sich wesentlich von der bei thermischer Aktivierung. Eine Abschätzung der thermodynamischen Stabilitäten der Halogenosiloxane wird gegeben. Sie läßt erwarten, daß diese Verbindungen metastabil sind bezüglich des Zerfalls in SiX4 und SiO2.
Additional Material:
4 Ill.
Type of Medium:
Electronic Resource
URL:
http://dx.doi.org/10.1002/zaac.19905870117
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