ALBERT

All Library Books, journals and Electronic Records Telegrafenberg

feed icon rss

Your email was sent successfully. Check your inbox.

An error occurred while sending the email. Please try again.

Proceed reservation?

Export
Filter
Collection
Publisher
Years
  • 1
    Electronic Resource
    Electronic Resource
    Weinheim : Wiley-Blackwell
    Acta Polymerica 41 (1990), S. 574-577 
    ISSN: 0323-7648
    Keywords: Chemistry ; Polymer and Materials Science
    Source: Wiley InterScience Backfile Collection 1832-2000
    Topics: Chemistry and Pharmacology , Physics
    Description / Table of Contents: At the investigation of oxygen plasma etching of poly(vinyl alcohol) some peculiarities have been found. Based on the etching kinetics, the formation of a thick, but not very stable „K-layer“ is assumed. The molecular structure of this modified layer may consist of some sections of conjugated double bonds within the polymer chain, graphitic and oxidized carbon, and crosslinked chains. From the unusual temperature dependence of the etching rate the existence of two competitive reactions is concluded. One reaction leads to degradation, the other to crosslinking of the macromolecules.
    Notes: Für das Ätzen von Poly(vinylalkohol) im Sauerstoffplasma wurden einige Besonderheiten festgestellt. Die Kinetik des Schichtabtrags läßt den Schluß zu, daß eine relativ dicke, aber wenig ätzresistente „K-Schicht“ im Verlauf des Plasmaätzens gebildet wird. Sie besteht möglicherweise zum Teil aus vernetzten Makromolekülen, konjugierten Doppelbindungen innerhalb der Polymerkette durch Dehydratisierung bzw. aus graphitischem und anoxidiertem Kohlenstoff. Aus der Temperaturabhängigkeit der Ätzgeschwindigkeit folgt die Annahme von zwei konkurrierenden Reaktionen, deren eine zum Schichtabbau, die andere dagegen zu weiterer Polymervernetzung führt.
    Additional Material: 2 Ill.
    Type of Medium: Electronic Resource
    Location Call Number Expected Availability
    BibTip Others were also interested in ...
  • 2
    ISSN: 0323-7648
    Keywords: Chemistry ; Polymer and Materials Science
    Source: Wiley InterScience Backfile Collection 1832-2000
    Topics: Chemistry and Pharmacology , Physics
    Description / Table of Contents: Two different hypotheses of the phenomenological process of etching of polymer films in a non isothermal oxygen plasma of a high frequency discharge are discussed: the successive etching on the surface and the formation of an etch-resistant surface layer with a shifting of the degradation processes in polymer bulk. This second model proposed by Valiev requires a complicated system of diffusion processes of plasma species and degradation products. Our findings are in contrast to those of Valiev, but it seems that the plasma modified surface layer plays a dominant role within the ablation process.
    Notes: Zwei unterschiedliche Vorstellungen zum Ablauf des Abtrags von Polymerschichten in einem nichtisothermen Sauerstoffplasma einer elektrischen Hochfrequenzentladung werden diskutiert: der successive Abbau an der Oberfläche und die plasmaphysikalische Verfestigung der Polymeroberfläche bei gleichzeitiger Verlagerung des Abbaus in des Polymervolumen. Das letztgenannte Modell von Valiev verlangt komplizierte Diffusionsprozesse von abbaufähigen Plasmaspezies und entsprechenden Abbauprodukten. Die hier durchgeführten Modellversuche sprechen in ihren Ergebnissen gegen das Modell von Valiey, wobei jedoch die plasmamodifizierte Polymeroberflächenschicht tatsächlich eine besondere Rolle beim Abbau der gesamten Polymerschicht spielt.
    Additional Material: 3 Ill.
    Type of Medium: Electronic Resource
    Location Call Number Expected Availability
    BibTip Others were also interested in ...
Close ⊗
This website uses cookies and the analysis tool Matomo. More information can be found here...