ISSN:
1436-5073
Source:
Springer Online Journal Archives 1860-2000
Topics:
Chemistry and Pharmacology
Description / Table of Contents:
Zusammenfassung Spurenelement-Verunreinigungen in hochreinem Siliciumdioxid (geschmolzener Quarz, Corning Code 7940, und Ultrex, J. T. Baker), in 96%igem Silicaglas (Corning Code 7913), in Borsilikatgläsern (Corning Code 7740 und Owens-Illinois KG-33) und in optischen, wellenleitenden Gläsern wurden mittels funkenangeregter Massenspektrometrie, Emissionsspektrographie, Neutronenaktivierungsanalyse, Atomarabsorption, Plasmaemissionsspektrometrie, Spektralphotometrie, Voltammetrie und mittels chemischer Methoden bestimmt. Besonders geachtet wurde hierbei darauf, die Probenherstellung und deren Analyse in reiner Umgebung mit ultrareinen Reagenzien durchzuführen. In den meisten Fällen wurden etliche 30 Elemente sowie der Wassergehalt mit zwei oder mehr der erwähnten Verfahren bestimmt. Das AusmaS der Verunreinigung hochreinen Siliciumdioxids und optischer wellenleitender Gläser mit vielen Elementen liegt in der Größenordnung ng/g, bei den anderen Glassorten in der Größenordnungμg/g. Funkenangeregte Massenspektrometrie und Neutronenaktivierungsanalyse wurden nicht nur auf Proben angewendet, die durch Flußsäurelösung und -verdampfung hergestellt worden waren, sondern auch auf ungelöste Proben zur Bestimmung flüchtiger Elemente wie B, P, S, As und Hg. Die Ergebnisse wurden im Hinblick auf die Verwendung der untersuchten Materialien sowie auf die entwickelten analytischen Verfahren diskutiert.
Notes:
Summary Trace-element impurities in high-purity silica (Corning Code 7940 fused silica and J. T. Baker Ultrex silicon dioxide), 96% silica glass (Corning Code 7913), borosilicate glasses (Corning Code 7740 and Owens-Illinois KG-33) and doped optical waveguide glass have been determined by spark-source mass-spectrometry, optical-emission spectrography, neutron-activation analysis, atomic-absorption and plasma emission spectrometry, spectrophotometry, voltammetry and chemical methods. Particular care was taken to prepare samples and carry out analyses in a clean environment with ultrapure reagents. In most cases some 30 elements as well as water were determined by two or more of the techniques indicated. The impurity level for many elements in the high-purity silica and optical waveguide glass is in the ng/g range and in theμg/g range for the other glasses. Spark-source mass-spectrometry and neutron-activation analyses were carried out not only on samples prepared by a hydrofluoric acid dissolution-evaporation procedure but also on undissolved samples for volatile elements such as B, P, S, As and Hg. Results obtained are discussed with respect to application of the materials as well as to the analytical methods developed.
Type of Medium:
Electronic Resource
URL:
http://dx.doi.org/10.1007/BF01196239
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