ISSN:
1588-2837
Source:
Springer Online Journal Archives 1860-2000
Topics:
Chemistry and Pharmacology
Description / Table of Contents:
Abstract Методом эллипсометрии исследована адсорбция атомов фтора на поверхности SiO2, полученного высокотемпературным окислением кремния. Установлено, что атомарный фтор на поверхности SiO2 адсорбируется обратимо. Основным каналом его гибели является реакция с SiO2, а гетерогенная рекомбинация в этих условиях (P=0, 1 торр, T=20–250°C) не играет существенной роли.
Notes:
Abstract In accordance with ellipsometric data, the adsorption of fluorine atoms on SiO2 obtained through the hightemperature oxidation of silicon, proves to be reversible. Chemical interaction of F with SiO2 is shown to be the basic route of F consumption, whereas heterogeneous recombination contributes only slightly under the experimental conditions studied (P=0.1 Torr, T=20–250°C).
Type of Medium:
Electronic Resource
URL:
http://dx.doi.org/10.1007/BF02073801
Permalink