ISSN:
0003-3146
Keywords:
Chemistry
;
Polymer and Materials Science
Source:
Wiley InterScience Backfile Collection 1832-2000
Topics:
Chemistry and Pharmacology
,
Physics
Description / Table of Contents:
Positive und negative Photostrukturen wurden in einem Polyimid (PI) aus 4,4′-Biphthalsäureanhydrid (BPA) und 4,4′-Diamino-3,3′-dimethyldiphenylmethan (DADMDPM), PI(BPA/DADMDPM) erzeugt, nachdem dieses mit Michlers Keton (MK) bzw. Benzophenon (BP) dotiert und einer ultravioletten Strahlung von 400 ± 50 nm ausgesetzt und naß entwickelt wurde. Das Prinzip der positiven Abbildung basiert auf dem Photokupplungseffekt von MK mit PI, der die Löslichkeit des Polyimids erhöht und so die Entwicklung eines Positivmusters ermöglicht. Die Erzeugung negativer Muster wird durch intermakromolekulare Wasserstoffbrücken zwischen der Carbonylgruppe des Imid-Rings und der Hydroxygruppe, die bei der photoinduzierten Kupplung von Benzophenon mit dem Polyimid gebildet wird, bewirkt. Die lithographische Auswertung zeigt, daß der mit MK dotierte, positive Polyimidfilm nicht in der Lage ist, brauchbare Muster zu erzeugen, da die UV-Wellenlängen von MK absorbiert werden, wodurch die Photokupplung in den tieferen Schichten des Films verhindert wird. Andererseits können in dem 0,6 μm dicken, mit Benzophenon dotierten Polyimidfilm sogar 2 μm schmale Linien aufgelöst werden.
Notes:
Positive and negative photostructures are formed after the polyimide (PI) of 4,4′-biphthalic anhydride (BPA) and 4,4′-diamino-3,3′-dimethyldiphenylmethane (DADMDPM), PI(BPA/DADMDPM) is doped with Michler′s ketone (MK) and benzophenone (BP), respectively, and is subjected to UV light (400 ± 50 nm) irradiation and solvent development. The principle of positive feature formation is based on the photocoupling of MK with PI, which increases PI solubility and thus enables a positive pattern to be developed. The phenomenon of negative photopatterning results from intermacromolecular H-bonding between the carbonyl group of the imide ring and the hydroxy group which is formed in the photoinduced coupling reaction between BP and PI. Lithographic evaluation shows that the MK-doped positive-acting PI film cannot form useful patterns because UV wavelengths are strongly absorbed by MK, which limits the depth of photocoupling in the film. On the other hand, 2-μm-wide lines can be resolved in the BP-doped negative-acting 0.6-μm-thick PI film.
Additional Material:
5 Ill.
Type of Medium:
Electronic Resource
URL:
http://dx.doi.org/10.1002/apmc.1994.052140106
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