ISSN:
0003-3146
Keywords:
Chemistry
;
Polymer and Materials Science
Source:
Wiley InterScience Backfile Collection 1832-2000
Topics:
Chemistry and Pharmacology
,
Physics
Description / Table of Contents:
Eine neuartige lichtempfindliche Naphthochinondiazid-Verbindung (NQD) wurde aus 2,6-Bis(hydroxymethyl)-3,4-dimethylphenol und Toluoldiisocyanat synthetisiert und mit IR-, NMR- und Elementaranalyse identifiziert. Die Bleicheigenschaften unter Lichteinwirkung wurden mit UV-Spektrophotometrie bestimmt. Die Anwendung von NQD in der Photolithographie als positiver Photoresist sowie einer wäßrigen Lösung von NQD, Novolak, Cellosolve-Acetat und DMF als lichtempfindliches Material wurde untersucht. Das hergestellte NQD erwies sich als effektive Komponente in positiven Photoresists. Die optimalen Bedingungen der UV-Dosis, Schichtdicke und Resistzusammensetzung wurden abgeschätzt. Die Auflösung des positiven Photoresists wurde durch Rasterelektronenmikroskopie bestimmt. Außerdem wurde der Einfluß von UV-Dosis und -Wellenlänge, Einwirkungsdauer und Entwicklungszeit auf die Empfindlichkeit und die Auflösung des Photoresists untersucht.
Notes:
A new photosensitive naphthoquinonediazide (NQD) was synthesized from 2,6-bis-(hydroxymethyl)-3,4-dimethylphenol and toluene diisocyante. NQD was identified by using IR, NMR and elemental analyses. Photobleachable characteristics were evaluated by UV spectrophotometry. Applications of the NQD on the photolithography as a positive working photoresist were investigated. The aqueous solution of NQD, novolak, cellosolve acetate, and DMF was used as a photosensitive material. It was found that NQD synthesized in this investigation can be used as an effective component in a positive photoresist. Optimal conditions of the UV dose, coating thickness, and development of the resist system were estimated. Resolution of the positive resist was evaluated by SEM technique. Effects of UV dose, exposure time, development time, and exposure UV wave length on the sensitivity and resolution of the photoresist were investigated.
Additional Material:
6 Ill.
Type of Medium:
Electronic Resource
URL:
http://dx.doi.org/10.1002/apmc.1995.052290104
Permalink