ISSN:
1434-4475
Keywords:
Keywords. Silicon hydrides; Gas phase reactions; Mass spectra.
Source:
Springer Online Journal Archives 1860-2000
Topics:
Chemistry and Pharmacology
Description / Table of Contents:
Zusammenfassung. Flugzeitmassenspektren nach Photoionisierung mit einem ArF-Excimerlaser wurden in einem effusiven Molekülstrahl aufgenommen, dessen Ursprung in der a-Si:H-Schichtbildungszone einer Gleichstromgasentladung in SiH4 und He liegt. Die Wellenlängenabhängigkeit bei der Bestrahlung mit XeF-, KrF- und ArF-Lasern sowie die Kinetik der Signale von SiH0–3 + und Si2H0–2 + zeigen, daß die Ionen hauptsächlich von Disilan stammen.
Notes:
Summary. Time-of-flight mass spectra generated by ArF laser photoionization have been obtained in a molecular beam effusing from an a-Si:H deposition system with a dc discharge in a gas mixture of SiH4 and He. The XeF, KrF, and ArF laser wavelength dependence and the kinetics of the SiH0–3 + and the Si2H0–2 + signals show that the ions predominantly originate from disilane.
Type of Medium:
Electronic Resource
URL:
http://dx.doi.org/10.1007/PL00010169
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