ISSN:
0044-2313
Keywords:
Chemistry
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Inorganic Chemistry
Source:
Wiley InterScience Backfile Collection 1832-2000
Topics:
Chemistry and Pharmacology
Notes:
Wird ein Gemenge von Si und SiO2 nach Zugabe von wenig Jod im geschlossenen Rohr erhitzt, so wandert SiO2 aus der heißeren (1270°C) in die weniger heiße (≤1000°C) Zone. Diese Erscheinung beruht darauf, daß das aus Si und SiO2 entstehende SiOg in die weniger heiße Zone diffundiert und dort zu SiO2 umgesetzt wird: 2 SiOg + SiJ4g = SiO2f + 2 SiJ2g 2 SiOg + 4 Jg = SiO2f + SiJ4g. Der SiO2-Transport ist berechenbar. Das elementare Silicium wandert bei kleinen Jodiddrucken nicht aus der heißen Zone ab.Bei entsprechenden Versuchen mit größeren Siliciumhalogenid-Drucken wird SiO2 bei mittleren Temperaturen abgeschieden, während sich das elementare Silicium in der kältesten Zone ansammelt.Im Hochvakuum auf die Quarzwand aufgedampftes Siliciummonoxyd hinterläßt nach dem Erhitzen mit Siliciumhalogeniden reines Siliciumdioxyd.Bei allen Versuchen hatte das gewonnene SiO2 faserigen Habitus.
Additional Material:
3 Ill.
Type of Medium:
Electronic Resource
URL:
http://dx.doi.org/10.1002/zaac.19572910503
