Dynamische in situ-Ellipsometrie für Grundlagenuntersuchungen und Prozeßkontrolle

Summary

Ellipsometry, a contactless and non-destructive optical technique, is particularly suited for the analysis of surface effects. Conventional static ellipsometry, however, permits on principle only the evaluation of two unknown sample parameters, which prohibits the analysis of more complex samples covered with multiple or inhomogeneous layers. Repeated measurements in situ allow the analysis of such systems in multiple consecutive “differential” steps. A specially designed high-speed ellipsometer is presented.

Zusammenfassung

Ellipsometrie eignet sich als berührungs- und zerstörungsfreies optisches Verfahren speziell zur Untersuchung von Oberflächeneffekten. Statische ellipsometrische Messungen erlauben aber prinzipiell nur die Ermittlung zweier unbekannter Probenparameter; die Analyse komplexer, aus mehreren oder inhomogenen Schichten bestehender Proben ist damit nicht möglich. Durch wiederholte Messungen in situ während eines Prozesses können jedoch auch solche Systeme in „differentiellen“ Schritten analysiert werden. Ein speziell für in situ-Messungen konzipiertes Ellipsometer mit hoher Meßgeschwindigkeit wird vorgestellt.