{{t.titulosHerramientas.nube}}

{{t.titulosHerramientas.numeros}}

A modular and generic monolithic integrated MEMS fabrication process

Abstract: A modular and generic, monolithic integrated MEMS fabrication process is presented to integrate microelectronics (CMOS) with mechanical microstructures (MEMS). The proposed monolithic integrated fabrication process is designed using an intra -

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{{t.titulosSecciones.leerDescargar}}
{{t.titulosSecciones.herramientas}}
{{t.titulosSecciones.compartir}}
Síntesis por el método Pechini y caracterización estructural, óptica y termoeléctrica de CuAlO2

Resumen: El aluminato de cobre (CuAlO 2 ) es un material termoeléctrico semiconductor tipo - p, que cristaliza en fase delafosita a temperatura de 1100 °C. En este trabajo se sintetizaron dos muestras por el método Pechini y se calcinaro

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{{t.titulosSecciones.leerDescargar}}
{{t.titulosSecciones.herramientas}}
{{t.titulosSecciones.compartir}}
Influence of active layer thickness, device architecture and degradation effects on the contact resistance in organic thin film transistor

Abstract: We analyze the influence of three combined effects on the contact resistance in organic - based thin film transistors: a) the active layer thickness, b) device architecture and c) semiconductor degradation. Transfer characteristics and parasitic serie s res

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{{t.titulosSecciones.leerDescargar}}
{{t.titulosSecciones.herramientas}}
{{t.titulosSecciones.compartir}}

Criterios de Evaluación
Criterios Básicos de Admisión Criterios Básicos de Admisión
{{criterio.prioridadCriterio}}. {{criterio.observaciones}}
{{criterio.prioridadCriterio}}. {{criterio.observaciones}}
Criterios Altamente Valorados / Criterios Deseables Criterios Cualitativos
{{criterio.prioridadCriterio}}. {{criterio.observaciones}}
{{criterio.prioridadCriterio}}. {{criterio.observaciones}}
Criterios Altamente Valorados Cuantitativos
{{criterio.prioridadCriterio}}. {{criterio.observaciones}}